Фоторефракциялык эффект голографиялык оптикалык колдонмолордун негизин түзөт, бирок ал башка оптикалык колдонмолорго да кыйынчылыктарды алып келет, ошондуктан литий ниобат кристаллынын фоторефракциялык туруктуулугун жогорулатууга чоң көңүл бурулган, алардын арасында допингдик жөнгө салуу эң маанилүү ыкма болуп саналат.Фоторефракциялык допингден айырмаланып, фоторефракцияга каршы допинг фоторефракциялык борборду азайтуу үчүн өзгөрүлбөгөн валенттүү элементтерди колдонот.1980-жылы жогорку катышы Mg кошулган LN кристаллынын фоторефракциялык каршылыгы чоңдуктун 2 иреттен ашык жогорулаганы маалымдалган, бул чоң көңүлдү бурган.1990-жылы изилдөөчүлөр цинк кошулган LN магний кошулган LN сыяктуу жогорку фоторефракциялык каршылыкка ээ экенин аныкташкан.Бир нече жыл өткөндөн кийин, скандий кошулган жана индий кошулган LN, ошондой эле фоторефракциялык каршылыкка ээ экени аныкталган.

2000-жылы, Xu et al.бийик экенин аныктадыкатышы Mg-допланганLNга көрүнүүчү тилкеде жогорку фотосынуу каршылыгы бар кристаллsUV тилкесинде сонун фоторефракциялык аткаруу.Бул ачылыш түшүнүгүн бузуп салдыtheфотосынуу каршылыгыLNкристалл, ошондой эле ультрафиолет тилкесинде колдонулган фоторефракциялык материалдардын боштугун толтурган.Кыска толкун узундугу голографиялык тордун көлөмү кичине жана майдараак болушу мүмкүн экенин билдирет жана динамикалык голографиялык оптиканы колдонууну ишке ашыруу үчүн ультрафиолет нуру менен динамикалык түрдө өчүрүлүп, торго жазылып, кызыл жарык жана жашыл жарык менен окулушу мүмкүн. .Ламарк жана башкалар.жогорку кабыл алганкатышы Мg-допланганLN кристалл Нанкай университети тарабынан UV фоторефракция катары берилгенматериалжана эки толкундуу кошулган жарыкты күчөтүү аркылуу программалоочу эки өлчөмдүү лазердик белгилөө ишке ашырылды.

Алгачкы этапта антифоторефракциялык допинг элементтери магний, цинк, индий жана скандий сыяктуу эки жана үч валенттүү элементтерди камтыган.2009-жылы Конг жана башкалар.тетрди колдонуу менен фоторефракцияга каршы допинг иштелип чыкканaгафний, цирконий жана калай сыяктуу валенттүү элементтер.Эки жана үч валенттүү кошулган элементтер менен салыштырганда бирдей фоторефракциялык каршылыкка жеткенде, төрт валенттүү элементтердин кошулма өлчөмү азыраак болот, мисалы, 4,0 моль% гафний жана 6,0 моль% магний кошулмасыLNкристаллдарда с барimиларфоторефракциялык каршылык,2.0 моль% цирконий жана 6.5 мол% магний кошулганLNкристаллдарда с барimиларфоторефракциялык каршылык.Анын үстүнө литий ниобатындагы гафнийдин, цирконийдин жана калайдын бөлүнүү коэффициенти 1ге жакын, бул жогорку сапаттагы кристаллдарды даярдоо үчүн жагымдуураак.

WISOPTIC тарабынан иштелип чыккан жогорку сапаттагы LN [www.wisoptic.com]